从1950年创业以来，大阪真空本着真空技术国产化的目标，坚持走跟踪世界最新科学技术和反映广大用户需求相结合的道路，不断推出大量高品质的真空系列产品。始终以用户提供最高品质的服务为宗旨。现在不仅在日本国内有了相当规模的发展，而且在海外也有了较高的知名度。目前真空技术在各行各业得到了广泛的应用。尤其在80年代以后，真空技术的重要性更加显著，成为支撑半导体和液晶产业的中枢技术。

1950年，公司成立，开始生产滑阀真空泵。

1971年，开始生产涡轮分子泵。

1983年，结合涡轮分子泵和牵引分子泵的结构，成功研发出世界上最早的复合分子泵。

1985年，开发出磁悬浮复合分子泵TG600M。

1990年，制造出世界最大的涡轮分子泵TH25000。

1993年，开发出高真空牵引分子泵TS440。

1993年，开发出极高真空磁悬浮分子泵TG-MU，极限真空＜10-8Pa。

2000年，任意角度安装的陶瓷轴承TG-F系列分子泵投放市场。

2001年，预防反应生成物型磁悬浮分子泵TG-MI系列投放市场。

2002年，全新数字化磁悬浮分子泵TG-M系列投放市场。

2004年，极低振动磁悬浮分子泵TG-ML系列投放市场。